透視恒溫槽對半導體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。

    低溫恒溫槽對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻：激光加工、熔接機的發(fā)熱部分、激光標志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機等。廣泛用于化工、石油、醫(yī)學、生物學、物理化學、計量檢定、大專院校、電子儀表、科研機構(gòu)等領(lǐng)域進行實驗、檢測和企業(yè)生產(chǎn)的一個冷熱受控、溫度均勻、并需清晰觀察浴槽內(nèi)部實時反應情況的場所對試驗樣品或生產(chǎn)的產(chǎn)品進行恒定溫度試驗或測試，恒溫槽控制系統(tǒng)采用PID自動控制，LED數(shù)顯。

   

透視恒溫槽啟動前的準備：

    1. 啟動前將透視恒溫槽和現(xiàn)場清理干凈?？諝庵胁粦懈g性氣體和有害雜質(zhì), 周圍無強電磁場干擾。應避免陽光直接照射到儀器上。

    2. 檢查外接軟管的卡套或法蘭螺栓是否擰緊。

    3. 電源要求：單相三線制或三相五線制（對應型號選擇電源規(guī)格）具有良好 接地，接地電阻不大于0.1歐姆。

    4. 注入循環(huán)液：*次使用應注入循環(huán)液，循環(huán)液的注入量以離上沿30mm 為佳！為防止異物堵塞管路，結(jié)垢等，請使用去離子水或循環(huán)液。水箱應定期清洗，水箱中的循環(huán)液應該定期更換防止微生物滋生。

    注1：小開口的透視恒溫槽應開機注入循環(huán)液。使用直徑不小于300mm的漏斗緩慢注入冷卻液，待水位報警停止時停止注入。

    注2：不同工作溫度應采用不同的冷卻液，參考如下：

    ●工作溫度低于5℃時,一般選用乙二醇的水溶液或乙醇。

    ●工作溫度5－80℃時, 一般選用去離子水。

    ●工作溫度80－90℃時,一般選用15％甘油水溶液。

    ●工作溫度90℃--200時,一般選用硅油，粘度不超過10。

    ●工作溫度超過200℃時,一般選用硅油，粘度不超過50。